第42届国际MNE研讨会将登场　爱德万测试展示最新电子光束微影技术

第42届国际微米及纳米工程研讨会(MNE)于9月19-23日在奥地利维也纳的Reed△Messe△Wien展览中心举办，半导体测试设备领导厂商爱德万测试9/16宣布，该公司将在这项国际讨会(MNE)的第25号摊位上，展示最新的F7000电子光...

第42届国际微米及纳米工程研讨会(MNE)于9月19-23日在奥地利维也纳的Reed△Messe△Wien展览中心举办，半导体测试设备领导厂商爱德万测试9/16宣布，该公司将在这项国际讨会(MNE)的第25号摊位上，展示最新的F7000电子光束微影系统。

爱德万测试表示，F7000电子光束微影系统不仅能提供高产量，并能以1Xnm的解析度在晶圆上投射出非常精准且平滑的纳米图案。F7000的直接写入技术使它十分适合作为研发设计工具，以及大型积体电路晶片(LSI)生产线上的解决方案，进行多样少量的装置生产。F7000系统的特征投射(Character△Projection)技术，不论在原型制造或生产上都可提供相当高的产量。

爱德万测试的纳米科技解决方案产品组合，爱德万测试表示，还包括可分别为晶圆、光罩提供即时3D测量与成像功能的E3310以及E3640多视角量测扫描式电子显微镜(MVM-SEM)系统。 在三闸极(Tri-Gate)制程方面，E3310晶圆MVM-SEM大幅提高了大量生产的效率。E3640光罩MVM-SEM系统的图案测量功能于业界名列前茅，并可为标准光罩、极紫外光(EUV)光罩与纳米压印(NIL)模板等应用带来高产量。

爱德万测试表示，E5610光罩缺陷检测扫描电子显微镜(DR-SEM)是专为检查、分类次世代光罩及空白片上的极小缺陷所设计。E5610系统拥有高度稳定、全自动的影像撷取功能，并具备关键光罩制造分析所需的长期操作稳定*及可靠度。

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