日亚再度胜诉、亿光在中国之覆晶晶片专利遭判无效

日本LED大厂日亚化学工业(Nichia)在周二(30日)发布新闻稿表示，在2019年6月27日由该公司向亿光电子(中国)有限公司(下称“亿光中国”)覆晶晶片技术之中国专利(专利申请号：ZL200710161547.X；下称“547...

日本 LED 大厂日亚化学工业 (Nichia) 在周二 (30 日) 发布新闻稿表示，在 2019 年 6 月 27 日由该公司向亿光电子 (中国) 有限公司 (下称“亿光中国”) 覆晶晶片技术之中国专利 (专利申请号：ZL200710161547.X；下称“547 号专利”) ，提出专利无效宣告请求。

中国国家知识产权局近日作成审查决定 (案件编号：4W108258)，承认日亚之主张，宣告 547 号专利全部无效。

(图片：Investing.com)中国国家知识产权局作成上述决定后，亿光中国前就 547 号专利对日亚及日亚客户向深圳市中级人民法院所提起之专利侵害诉讼 (案号：(2017) 粤 03 民初 2283 及 2284 号)，也因亿光中国撤回起诉而告终结。

此外，日亚先前在 2019 年 1 月，就其控告亿光中国及其中国经销商之 YAG 专利侵害诉讼取得胜诉判决，此判决也已确定。日亚并获得亿光中国及其经销商共计人民币 320 万元之损害赔偿。

亿光中国为 LED 封装厂亿光 (2393-TW) 的子公司，该公司与日亚过去自 2016 年 3 月起，就因侵权问题缠讼多年。

而相关诉讼则是于 2019 年 1 月 10 日，由北京知识产权法院作出 3 则判决。其中 2 则判决，皆判定亿光应给付日亚人民币 100 万元的损害赔偿，以及人民币 25 万元的合理诉讼费用。

而另 1 则判决，判定亿光应给付日亚人民币 50 万元的损害赔偿，及人民币 20 万元的合理诉讼费用。累计赔偿金额达人民币 320 万元。